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    帕森斯设计学院 Parsons the New School for Design
    • 优势专业: 服装设计室内设计插画设计
    • 申请截止日期:早申:11月1日 常规:1月15日
    • 语言要求:托福: 100 雅思: 7.0; 申请难度: 困难
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    罗德岛设计学院 Rhode Island School of Design
    • 优势专业: 工业设计多媒体设计陶艺摄影建筑设...
    • 申请截止日期:早申:11月1日 常规:2月1日
    • 语言要求:托福: 93 雅思: 6.5; 申请难度: 困难
    + 院校对比
    普瑞特艺术学院 Pratt Institute
    • 优势专业: 室内设计插画设计工业设计影视制作...
    • 申请截止日期:早申:11月1,常规:1月5
    • 语言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申请难度: 困难
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    纽约时装学院 Fashion Institute of Technology
    • 优势专业: 服装设计插画设计配饰设计
    • 申请截止日期:1月1日
    • 语言要求:托福: 80 雅思: 6.5; 申请难度: 困难
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    哈佛大学 Harvard University
    • 优势专业: 景观设计建筑设计工业设计
    • 申请截止日期:早申:11月1日 常规:1月1日
    • 语言要求:托福: 100 雅思: N/A; 申请难度: 困难
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    萨凡纳艺术与设计学院 Savannah College of Art and Design
    • 优势专业: 服装设计平面设计插画设计
    • 申请截止日期:rolling
    • 语言要求:托福: 85 雅思: 6.5; 申请难度: 一般
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    天普大学 Temple University
    • 优势专业: 纯艺术
    • 申请截止日期:早申:11月1日 常规:2月2日
    • 语言要求:托福: 79 雅思: 本6.0 研6.5; 申请难度: 一般
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    奥蒂斯艺术与设计学院 Otis College of Art and Design
    • 优势专业: 服装设计纯艺术
    • 申请截止日期:早申:12月1日 常规:2月15日
    • 语言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申请难度: 一般
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    加州艺术学院 California Institute of the Arts
    • 优势专业: 室内设计动画设计摄影
    • 申请截止日期:EA:12.2, RD: 1.6
    • 语言要求:托福: 本80 研100 雅思: 本6.5 研7.0; 申请难度: 困难
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    芝加哥艺术学院 School of the Art Institute of Chicago
    • 优势专业: 插画设计多媒体设计摄影
    • 申请截止日期:早申:11月15日 常规:1月15日
    • 语言要求:托福: 本:82 研:80 雅思: 6.5; 申请难度: 困难
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    南加州大学 University of Southern California
    • 优势专业: 动画设计多媒体设计影视制作音乐
    • 申请截止日期:早申:12月1日 常规:1月15日
    • 语言要求:托福: 100 雅思: 7.0; 申请难度: 困难
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    美国加州艺术学院 California Institute of the Arts
    • 优势专业: 工业设计室内设计摄影平面设计服装设计
    • 申请截止日期:早申:12月1日 常规:1月5日
    • 语言要求:托福: 本80 研100 雅思: 本6.5 研7.0; 申请难度: 困难
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    马里兰艺术学院 Maryland Institute College of Art
    • 优势专业: 交互设计平面设计纯艺术插画设计
    • 申请截止日期:早申:12月15日 常规:2月1日
    • 语言要求:托福: 80 雅思: 6.5; 申请难度: 困难
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    麻省艺术与设计学院 Massachusetts College of Art and Design
    • 优势专业: 服装设计纺织品设计珠宝设计
    • 申请截止日期:早申:12月1日 常规:2月1日
    • 语言要求:托福: 85 雅思: 本6.0 研6.5; 申请难度: 困难
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    罗彻斯特理工学院 Rochester Institute of Technology
    • 优势专业: 工业设计多媒体设计摄影
    • 申请截止日期:ED: 11.1, RD: 1.15
    • 语言要求:托福: 79 雅思: 6.5; 申请难度: 一般
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